陈宇不是很懂技术，但却知道，这是决定未来光刻机命运的时刻。

在前世2008年之后，全球90%以上生产出来的芯片，用的都是林本艰所提出来的湿式光刻工艺。

并且，也正因为林本艰提出了这个湿式工艺，这才将芯片从190纳米，一路做到了130纳米，90纳米，65纳米，40纳米，28纳米，20纳米，16纳米，10纳米，7纳米，和5纳米。

甚至，连最为尖端的3纳米，采用的都是林本艰的湿式光刻技术。

“这个，说不准，理论上有可能，但里面还存在着一系列要解决的问题。

比如，水会不会产生汽泡，水会不会污染设备，要怎么做防水，水遇热会膨胀，折射率会改变，这又怎么解决……”

张如京向陈宇述说着这一个湿式光刻工艺所面对的问题。

只是，这个时候，陈宇的眼睛已经盯紧了林本艰。

他知道。

未来若干年之后，这一切的问题都不会成为问题。

如果抓住这个林本艰，那么，中国光刻机就有希望了。
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